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得到證實(shí)!對華28nm以下大硅片出口管制已納入瓦森納協(xié)定

發(fā)布時(shí)間:2022-09-16作者來源:薩科微瀏覽:2017


導(dǎo)讀:9月14日,立昂微在互動(dòng)平臺(tái)回復(fù)投資者提問時(shí)表示,用于28納米以下制程的12英寸硅片已納入瓦森納協(xié)定。

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來源:互動(dòng)平臺(tái)

投資者在互動(dòng)平臺(tái)咨詢立昂微:國際前5大硅片生產(chǎn)商的12英寸用于28納米以下制程的硅片是不對國內(nèi)出售的,請問是否屬實(shí)?立昂微公司回答表示,據(jù)了解,用于28納米以下制程的12英寸硅片已納入瓦森納協(xié)定。

芯片大師認(rèn)為,作為國內(nèi)老牌硅片制造商,立昂微的這一回復(fù)可信度極高。側(cè)面證實(shí)了西方對華硅片材料出口限制已經(jīng)從14nm擴(kuò)大到28nm節(jié)點(diǎn),實(shí)質(zhì)上突破了2019年年底修訂的《瓦森納協(xié)定》對硅片的出口限制范圍。

如果屬實(shí),在國內(nèi)12英寸大硅片技術(shù)和產(chǎn)能取得實(shí)質(zhì)突破之前,或許晶圓廠的28nm及以下工藝產(chǎn)線暫時(shí)難以獲得進(jìn)口硅片。從終端客戶(實(shí)體清單)、主芯片(GPU、代工)、設(shè)備(光刻機(jī)等)、大硅片再到EDA,對國內(nèi)先進(jìn)芯片的上游設(shè)計(jì)和制造環(huán)節(jié)合圍已經(jīng)形成。

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圖:《瓦森納協(xié)定》2019年新增條款

2019年年底,《瓦森納協(xié)定》完成了一次對中國大陸半導(dǎo)體發(fā)展影響巨大的一次修訂。其中對于大硅片技術(shù)管制的具體內(nèi)容表述為:“對300mm直徑硅晶圓的切割、研磨、拋光達(dá)到局部平整度的技術(shù)要求,在任意26mm*8mm的面積內(nèi)平整度差小于等于20nm,以及邊緣去除方面小于等于2mm。”

一位硅片業(yè)內(nèi)人士解讀稱,這是行業(yè)內(nèi)關(guān)于硅片平整度技術(shù)要求的最精準(zhǔn)描述。換成大家都看得懂的說法就是,限制用于14nm及以下制程工藝的大硅片生產(chǎn)制造技術(shù),不光硅片,所有涉及的技術(shù)、設(shè)備等都在出口管制之內(nèi)。

“在40nm制程節(jié)點(diǎn)以下,對于硅片要求基本是差不多的,對應(yīng)的技術(shù)節(jié)點(diǎn)主要是看光刻機(jī)下套準(zhǔn)的精度是多少,精準(zhǔn)度越高,平整度就要求越高,所以限制平整度[敏感詞]是專業(yè)手法。

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圖:立昂微制造的硅材料

與此同時(shí),在硅片材料外,對華出口限制了先進(jìn)工藝節(jié)點(diǎn)最重要的兩大工具——EDA軟件和制造設(shè)備(含EUV光刻機(jī))。但在此之前,西方公開的出口管制政策一直停留在7nm-14nm節(jié)點(diǎn),12英寸硅片也是如此。


公布該消息的立昂微成立于2002年3月,創(chuàng)始人闕端麟院士是中國最早研究硅材料的科學(xué)家之一,曾任浙江大學(xué)副校長。


2000年,闕端麟院士創(chuàng)辦硅片制造企業(yè)浙江金瑞泓(現(xiàn)為立昂微子公司),2010年承擔(dān)了02專項(xiàng)的“200mm硅片研發(fā)與產(chǎn)業(yè)化及300mm硅片關(guān)鍵技術(shù)研究”項(xiàng)目,目前已建成15萬片的12英寸硅片產(chǎn)能,圖像傳感器件和功率器件上已實(shí)現(xiàn)大規(guī)模出貨


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圖:上海新昇大硅片項(xiàng)目奠基儀式
(右六為張汝京博士)


而另一家承擔(dān)了02專項(xiàng)的大硅片制造企業(yè)為張汝京博士創(chuàng)辦的上海新昇(現(xiàn)為滬硅產(chǎn)業(yè)子公司)。


作為一開始就瞄準(zhǔn)“12英寸硅片卡脖子”的明星企業(yè),上海新昇不負(fù)眾望,開發(fā)出用于20-14nm先進(jìn)邏輯和存儲(chǔ)器的300mm硅片技術(shù),目前已建設(shè)完成30萬片月產(chǎn)能的生產(chǎn)線,累計(jì)實(shí)現(xiàn)銷售達(dá)到600萬片。


此外,產(chǎn)能上有望解決晶圓廠“燃眉之急”的12英寸硅片制造企業(yè)還有中環(huán)股份、有研半導(dǎo)體、中欣晶圓、奕斯偉、上海超硅等。


但12英寸晶圓已經(jīng)量產(chǎn)使用超過20年,這些國產(chǎn)“后生”追趕的難度也是顯而易見的。一是部分企業(yè)投資存在不確定性,存在泡沫產(chǎn)能無法落地;二是產(chǎn)品市場上,大部分企業(yè)沒有突破到40nm以內(nèi)邏輯制程正片的規(guī)模出貨;三是缺乏規(guī)模優(yōu)勢難以獲得市場認(rèn)可,成熟工藝市場和五大國際硅片廠(日本信越、勝高、臺(tái)灣環(huán)球晶圓、德國Siltronic和韓國SK Siltron)動(dòng)輒百萬片的產(chǎn)能及成本難以競爭。


這次的28nm管制,能刺激國內(nèi)晶圓廠和硅片廠“結(jié)盟”并在材料領(lǐng)域掀起“替代潮”嗎?



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